一種管內(nèi)氣相沉積設(shè)備進(jìn)氣裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022360460.9 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN213476096U 公開(公告)日 2021-06-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN213476096U 申請(qǐng)公布日 2021-06-18
分類號(hào) C23C16/455(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 俞佳賓;李凡;眭立洪;施國棋;王龍飛 申請(qǐng)(專利權(quán))人 江蘇永鼎光纖科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州知途知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 馬剛強(qiáng)
地址 215200江蘇省蘇州市吳江區(qū)黎里鎮(zhèn)越秀路888號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及一種管內(nèi)氣相沉積設(shè)備進(jìn)氣裝置,包括一端連接氣柜的進(jìn)氣管和一端連接卡盤的反應(yīng)管,反應(yīng)管的另一端套設(shè)在所述進(jìn)氣管的另一端外側(cè),所述進(jìn)氣管和反應(yīng)管之間設(shè)有彈性密封件,彈性密封件外壁與所述反應(yīng)管內(nèi)壁間密封,所述彈性密封件內(nèi)壁與所述進(jìn)氣管外壁間留有間隙,還包括真空密封組件,真空密封組件包括套設(shè)在所述彈性密封件外側(cè)的真空密封件主體,真空密封件主體上開設(shè)有高純氣體進(jìn)氣口、抽真空進(jìn)氣口、抽真空排氣口和空氣進(jìn)氣口。本實(shí)用新型的管內(nèi)氣相沉積設(shè)備進(jìn)氣裝置,通過在機(jī)床卡盤和氣柜間增加一套密封裝置,采用抽真空原理,利用氣體實(shí)現(xiàn)密封,解決了旋轉(zhuǎn)密封的問題,使用氣體密封代替磁液密封或航空脂,成本低。