晶體的高溫退火爐
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN00216702.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN2408570Y | 公開(公告)日 | 2000-11-29 |
申請公布號 | CN2408570Y | 申請公布日 | 2000-11-29 |
分類號 | H01L21/324 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 徐軍;周國清;鄧佩珍 | 申請(專利權(quán))人 | 上海中科嘉浦光電子材料有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海華東專利事務(wù)所 | 代理人 | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所 |
地址 | 201800上海市800-211郵政信箱 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種晶體的高溫退火爐,主要包括在能夠密封的鐘罩內(nèi),同一中心軸線的置有堝托、置于堝托上墊板上的待退火晶體,直徑Dh大于待退火晶體直徑Dj的恒溫筒和直徑Df大于恒溫筒直徑Dh的發(fā)熱體。發(fā)熱體的熱量以輻射的形式傳給待退火晶體。待退火晶體不直接接觸發(fā)熱體,退火的溫度是緩緩升高,消除了因溫度突然升高而引起待退火晶體炸裂的因素。雖然退火溫度可以高達2200℃,但均勻而容易控制。適宜對高溫氧化物晶體的退火。 |
