一種掩模制造用新型真空系統(tǒng)及上下料方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202011530542.1 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112758669A | 公開（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請公布號 | CN112758669A | 申請公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號 | B65G47/90(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 華衛(wèi)群;尤春;劉浩;劉維維;楊東海;韋慶宇;顧夢星 | 申請（專利權(quán)）人 | 無錫中微掩模電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 無錫蘇元專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 吳忠義 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市新吳區(qū)菱湖大道202號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明屬于掩模制造領(lǐng)域，提供了一種掩模制造用新型真空系統(tǒng)，包括工藝腔體，工藝腔體內(nèi)設(shè)置有工件臺和機(jī)械手臂，工藝腔體外側(cè)在進(jìn)出料口處設(shè)置有上下料腔體，上下料腔體通過進(jìn)出料口與工藝腔體連通，進(jìn)出料口設(shè)置有電控內(nèi)封閉門，上下料腔體設(shè)置有與外界連通的送料口并設(shè)置有電控外封閉門；工藝腔體和上下料腔體均設(shè)置有真空調(diào)節(jié)裝置。本發(fā)明同時提供了這種真空系統(tǒng)的上下料方法。本發(fā)明提供的掩模制造用新型真空系統(tǒng)及上下料方法，在工藝腔體前上下料腔體，在工藝進(jìn)行過程中完成上下料真空環(huán)境的轉(zhuǎn)換，減少交互對工藝的影響，整體上縮短制造用時，提高效率和產(chǎn)能，同時在工藝腔體內(nèi)添加了預(yù)存料盒，節(jié)省工藝等待時間，進(jìn)一步提高效率和產(chǎn)能。?? |
