一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202110266066.5 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112885689A | 公開（公告）日 | 2021-06-01 |
| 申請公布號 | CN112885689A | 申請公布日 | 2021-06-01 |
| 分類號 | H01J37/317（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 華衛(wèi)群;尤春;薛文卿;顧夢星;張月圓;劉維維;季書鳳 | 申請（專利權(quán)）人 | 無錫中微掩模電子有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 連云港聯(lián)創(chuàng)專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | 劉剛 |
| 地址 | 214000江蘇省無錫市新區(qū)菱湖大道202號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及掩模制版技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種新型FEI離子束修補機電子中和漏斗，包括電子中和漏斗本體，所述電子中和漏斗本體的一側(cè)安裝有支撐連桿，所述支撐連桿的頂部安裝有工藝氣體管道，所述工藝氣體管道的端部安裝有工藝氣體噴嘴，所述電子中和漏斗本體的中間位置處開設(shè)有中心孔，所述電子中和漏斗本體的內(nèi)部設(shè)置有內(nèi)側(cè)面和最低面。該一種新型FEI850離子束修補機電子中和漏斗，通過設(shè)置電子中和漏斗本體、內(nèi)側(cè)面和最低面，使得本發(fā)明具有防干擾功能和高效吸附性能，進而在設(shè)備修補過程中，具有對離子、電子更好的吸附性能，同時可根據(jù)二次離子束和二次電子流成像原理，避免了發(fā)散離子和電子的干擾，使得修補精度更高，成像更清晰。?? |
