一種硅片表面清洗方法及清洗液

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111389708.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114101193A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114101193A 申請公布日 2022-03-01
分類號 B08B3/08（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 卞梁;潘連勝;秦朗 申請（專利權）人 錦州神工半導體股份有限公司
代理機構 北京易捷勝知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 薛曉萌;齊云
地址 121000遼寧省錦州市太和區(qū)中信路46號甲
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種硅片表面清洗方法，包括步驟：S1、將硅片放入盛裝有一號清洗液的一次清洗槽內，一號清洗液通過帶有濾芯的管泵組件在一號清洗槽內外循環(huán)，硅片在一號清洗液內擺動；加熱并兆聲進行清洗；一號清洗液由氨水、雙氧水、有機膦酸、超純水按體積比8?12:8?12:0.8?1.2:80?100組成；S2、使用超純水溢流沖洗；S3、將硅片放入盛裝有二號清洗液的二次清洗槽內，二號清洗液通過帶有濾芯的管泵組件在二號清洗槽內外循環(huán)，硅片在二號清洗液內擺動；加熱并兆聲進行清洗；二號清洗液由氨水、雙氧水、有機膦酸、超純水按體積比8?12:18?22:0.8?1.2:80?100組成；S4、使用QDR法清洗；S5、使用超純水溢流沖洗；S6、慢提拉法脫水烘干。本發(fā)明具有更優(yōu)的清洗效果，簡化傳統(tǒng)RCA清洗的步驟。