一種硅片表面清洗方法及清洗液
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111389708.7 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114101193A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-03-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114101193A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-01 |
| 分類(lèi)號(hào) | B08B3/08（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分類(lèi) | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 卞梁;潘連勝;秦朗 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 錦州神工半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京易捷勝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 薛曉萌;齊云 |
| 地址 | 121000遼寧省錦州市太和區(qū)中信路46號(hào)甲 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種硅片表面清洗方法，包括步驟：S1、將硅片放入盛裝有一號(hào)清洗液的一次清洗槽內(nèi)，一號(hào)清洗液通過(guò)帶有濾芯的管泵組件在一號(hào)清洗槽內(nèi)外循環(huán)，硅片在一號(hào)清洗液內(nèi)擺動(dòng)；加熱并兆聲進(jìn)行清洗；一號(hào)清洗液由氨水、雙氧水、有機(jī)膦酸、超純水按體積比8?12:8?12:0.8?1.2:80?100組成；S2、使用超純水溢流沖洗；S3、將硅片放入盛裝有二號(hào)清洗液的二次清洗槽內(nèi)，二號(hào)清洗液通過(guò)帶有濾芯的管泵組件在二號(hào)清洗槽內(nèi)外循環(huán)，硅片在二號(hào)清洗液內(nèi)擺動(dòng)；加熱并兆聲進(jìn)行清洗；二號(hào)清洗液由氨水、雙氧水、有機(jī)膦酸、超純水按體積比8?12:18?22:0.8?1.2:80?100組成；S4、使用QDR法清洗；S5、使用超純水溢流沖洗；S6、慢提拉法脫水烘干。本發(fā)明具有更優(yōu)的清洗效果，簡(jiǎn)化傳統(tǒng)RCA清洗的步驟。 |
