相控陣超聲檢測(cè)用試塊裝置及超聲波靈敏度校準(zhǔn)方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111270740.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN114397372A 公開（公告）日 2022-04-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN114397372A 申請(qǐng)公布日 2022-04-26
分類號(hào) G01N29/30（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 季昌國(guó);余超;劉暢 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京華科同和科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董驍毅;崔博
地址 100045北京市西城區(qū)復(fù)興門外地藏庵南巷一號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種相控陣超聲檢測(cè)用試塊裝置及超聲波靈敏度校準(zhǔn)方法，所述裝置包含多個(gè)不同尺寸的試塊按對(duì)應(yīng)大小依序構(gòu)成的階梯型試塊；所述階梯型試塊各階梯上預(yù)設(shè)位置設(shè)置有不同深度的刻槽反射面，用于通過不同厚度的階梯位置處的所述刻槽反射面對(duì)不同厚度的工件進(jìn)行超聲波靈敏度校準(zhǔn)；所述試塊為不同厚度的矩形塊，所述刻槽反射面設(shè)置于所述階梯型試塊各階梯的階梯面上預(yù)設(shè)位置，或所述試塊為不同直徑的半圓柱體，所述刻槽反射面設(shè)置于所述階梯型試塊各階梯的圓截面上預(yù)設(shè)位置。