一種低濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體持續(xù)發(fā)生裝置及其發(fā)生方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201810616981.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN108554207A | 公開(公告)日 | 2018-09-21 |
申請公布號(hào) | CN108554207A | 申請公布日 | 2018-09-21 |
分類號(hào) | B01F3/02;B01F15/04;B01F15/00 | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 謝雷;楊雁南;沈飛宙 | 申請(專利權(quán))人 | 上海雷密傳感技術(shù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京東正專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 張亦華 |
地址 | 201807 上海市嘉定區(qū)城北路1355號(hào)1幢801室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種低濃度標(biāo)準(zhǔn)氣體持續(xù)發(fā)生裝置及其發(fā)生方法,該發(fā)生裝置包括進(jìn)氣管路、氣源室、主氣室和配氣管路,氣源室通過第一氣泵與主氣室連通,主氣室內(nèi)安裝有壓差傳感器,主氣室的出氣端通過傳質(zhì)控制裝置與配氣管路連通,進(jìn)氣管路分別與氣源室和配氣管路連通。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的技術(shù)方案利用傳質(zhì)控制裝置控制氣室容積,使氣室壓力穩(wěn)定,可配置并持續(xù)輸出低濃度、流速均勻的標(biāo)準(zhǔn)氣體,配氣操作簡便,效率高,穩(wěn)定性好。 |
