超聲波清洗漕結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202021823849.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN213915194U | 公開(公告)日 | 2021-08-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN213915194U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-10 |
分類號(hào) | B08B3/12(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/06(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 同小剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海華力集成電路制造有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海浦一知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 焦天雷 |
地址 | 201203上海市浦東新區(qū)康橋東路298號(hào)1幢1060室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種超聲波清洗漕結(jié)構(gòu),包括:內(nèi)槽體用于容置清洗液和被清洗晶圓,被清洗晶圓浸泡于清洗液中;外槽體底部形成有內(nèi)槽體安裝孔,內(nèi)槽體自內(nèi)槽體安裝孔進(jìn)入外槽體,外槽體與內(nèi)槽體之間形成容置空間,自內(nèi)槽體溢出的清洗液能被容置于外槽體和內(nèi)槽體之間的容置空間;多個(gè)擴(kuò)散噴嘴形成有內(nèi)槽體內(nèi)側(cè)壁,其用于將化學(xué)清洗液噴射向被清洗晶圓;每個(gè)擴(kuò)散噴嘴設(shè)有獨(dú)立控制擴(kuò)散噴嘴控制閥或所有擴(kuò)散噴嘴設(shè)有統(tǒng)一的擴(kuò)散噴嘴控制閥。本實(shí)用新型能實(shí)現(xiàn)對(duì)清洗槽的徹底清洗,清洗效果好且有保障,可有效改善金屬研磨后對(duì)產(chǎn)品的清洗效果,提高集成電路芯片產(chǎn)品的良品率和產(chǎn)品均一性。 |
