一種降低熱交換的蒸發(fā)鍍膜用坩堝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022571219.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213570708U | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請公布號 | CN213570708U | 申請公布日 | 2021-06-29 |
分類號 | C23C14/30(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 劉敏;章旭;吳臨紅;劉輝;張帥;劉軍;李榮 | 申請(專利權(quán))人 | 江西晶創(chuàng)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 溫州名創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 程嘉煒 |
地址 | 335000江西省鷹潭市鷹潭經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)和諧路7號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種降低熱交換的蒸發(fā)鍍膜用坩堝,包括底座、坩堝和設(shè)置于底座下端的冷卻水通道,所述底座上端面為支撐面,所述支撐面凹陷形成有用于放置坩堝的放置槽,所述坩堝由鎢或鉬材料制成,當(dāng)所述坩堝放置于底座時,所述坩堝底端與放置槽底部之間為隔熱部。本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)和效果:使用鎢鉬等高熔點(diǎn)材料做坩堝,熔點(diǎn)溫度>2600℃高于材料1800℃,且坩堝與底座不完全接觸,使得在材料加熱處理時邊緣部分可以完全的熔化,減少在使用中噴濺,提高產(chǎn)品品質(zhì)。 |
