晶片清洗裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201620401745.3 申請日 -
公開（公告）號 CN205595313U 公開（公告）日 2016-09-21
申請公布號 CN205595313U 申請公布日 2016-09-21
分類號 H01L21/67(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 朱寧;劉增偉;王培培 申請（專利權(quán)）人 元鴻（山東）光電材料有限公司
代理機構(gòu) 濟寧眾城專利事務所 代理人 杜言壘
地址 272000 山東省濟寧市高新區(qū)聯(lián)華路8號（信息產(chǎn)業(yè)園內(nèi))
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 晶片清洗裝置，包括機架，設置在機架上的上支撐板和下支撐板，在上支撐板和下支撐板之間設置有晶片載具，在下支撐板的中部具有一軸接驅(qū)動電機的中間轉(zhuǎn)軸，在上支撐板上設置有上滾刷和上噴頭，驅(qū)動上滾刷旋轉(zhuǎn)的滾刷電機固定在上支撐板上，上噴頭位于上支撐板的另一端，與上噴頭相連接的噴淋管與供液管連接，在下支撐板上設置有下滾刷和下噴頭，在機架的下支撐板上設置有排液管，所述排液管與供液管連接，在所述排液管上還設置有過濾器；本實用新型通過噴頭噴灑清洗液及滾刷的刷洗，以實現(xiàn)對晶片的清潔，在所述排液管上還設置有過濾器。使用過的清洗液經(jīng)過濾后可以重新利用，有利于節(jié)約企業(yè)成本。