一種泡沫金屬的高速真空鍍膜設備及工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201511013559.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN105441886A | 公開(公告)日 | 2016-03-30 |
申請公布號 | CN105441886A | 申請公布日 | 2016-03-30 |
分類號 | C23C14/34(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李偉;王乃用;劉俊林;蘇衍憲;李常興;孟國強;邢尋勇;錢亞杰;韓珅;田利 | 申請(專利權(quán))人 | 菏澤天宇科技開發(fā)有限責任公司 |
代理機構(gòu) | 濟南泉城專利商標事務所 | 代理人 | 張貴賓 |
地址 | 274000 山東省菏澤市開發(fā)區(qū)黃河東路三里河工業(yè)園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及泡沫金屬生產(chǎn)領域,特別涉及一種泡沫金屬的高速真空鍍膜設備及工藝。該泡沫金屬的高速真空鍍膜設備及工藝,包括相互對稱的上卷繞室和下卷繞室,上卷繞室和下卷繞室中間設有鍍膜室;所述上卷繞室和下卷繞室內(nèi)設有卷輥;所述卷輥通過電機帶動;所述鍍膜室包括殼體,殼體上下分別設有法蘭;所述殼體內(nèi)壁上設有N組相對的陰極靶和冷卻裝置;所述冷卻裝置與循環(huán)管相連,陰極靶與設備的濺射電源相連;所述電機、濺射電源等通過PCL控制器控制。本發(fā)明采用多靶極,短間距濺射,模芯接觸式直接冷卻的方案,實現(xiàn)模芯在真空環(huán)境下高速鍍膜。 |
