提高泡沫鎳一致性的生產(chǎn)工藝及所用的基材預(yù)處理裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310742319.7 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103695968B 公開(kāi)（公告）日 2016-05-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN103695968B 申請(qǐng)公布日 2016-05-18
分類號(hào) C25D1/08(2006.01)I;C25D1/10(2006.01)I 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 宋小斌;畢研文;李偉;王乃用;江衍勤;劉俊林;蘇衍憲;李常興;孟國(guó)強(qiáng);姜守振 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 菏澤天宇科技開(kāi)發(fā)有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 代理人 張貴賓
地址 274032 山東省菏澤市開(kāi)發(fā)區(qū)黃河?xùn)|路861號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及泡沫鎳生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種提高泡沫鎳一致性的生產(chǎn)工藝，同時(shí)還公開(kāi)了實(shí)現(xiàn)該工藝使用的基材預(yù)處理裝置。它主要通過(guò)在對(duì)基材進(jìn)行導(dǎo)電化處理之前，利用基材預(yù)處理裝置對(duì)基材進(jìn)行拉伸、定寬度，使由該基材生產(chǎn)出來(lái)的泡沫鎳的面密度偏差小于5%，批量抗拉強(qiáng)度偏差在15%以下、延伸率偏差在10%以下。本發(fā)明通過(guò)基材自動(dòng)定間距、定比例拉伸，改變因基材自身隨卷繞半徑增大帶來(lái)的明暗周期間距的變化，將這一變化控制在一定范圍之內(nèi)。經(jīng)過(guò)拉伸后的基材明暗周期變化間距由100mm～600mm，縮短為100～300mm；基材拉伸比例可為10～30%，從而保證了產(chǎn)品面密度的一致性，進(jìn)而保證了產(chǎn)品強(qiáng)度、延伸率的一致性。