一種真空鍍膜冷卻裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201521121822.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN205329149U | 公開(kāi)（公告）日 | 2016-06-22 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN205329149U | 申請(qǐng)公布日 | 2016-06-22 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C14/34(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 王乃用;劉俊林;李偉;蘇衍憲;孟國(guó)強(qiáng);李常興;邢尋勇;錢(qián)亞杰;韓珅;田利 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 菏澤天宇科技開(kāi)發(fā)有限責(zé)任公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人 | 張貴賓 |
| 地址 | 274000 山東省菏澤市開(kāi)發(fā)區(qū)黃河?xùn)|路三里河工業(yè)園 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及泡沫金屬生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種真空鍍膜冷卻裝置。該真空鍍膜冷卻裝置，包括殼體，殼體上下分別設(shè)有法蘭；所述殼體內(nèi)壁上設(shè)有N組相對(duì)的陰極靶和冷卻裝置；所述冷卻裝置與循環(huán)管相連，陰極靶與設(shè)在殼體外壁的濺射電源相連；所述冷卻裝置與密封室連接，該密封室固定在殼體內(nèi)壁上；所述濺射電源等通過(guò)PCL控制器控制。本實(shí)用新型為鍍膜區(qū)域提供良好的溫度環(huán)境，其膜芯溫度在-10℃～80℃范圍內(nèi)可控；本實(shí)用新型冷卻機(jī)構(gòu)與膜芯充分接觸，利用冷卻機(jī)構(gòu)里的冷卻介質(zhì)將膜芯上的熱量帶走。避免造成膜芯結(jié)構(gòu)的損傷，從而達(dá)到提高泡沫金屬的產(chǎn)品質(zhì)量之目的。 |
