一種真空鍍膜冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201511013558.4 申請日 -
公開（公告）號 CN105441885B 公開（公告）日 2018-10-09
申請公布號 CN105441885B 申請公布日 2018-10-09
分類號 C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王乃用;劉俊林;李偉;蘇衍憲;孟國強(qiáng);李常興;邢尋勇;錢亞杰;韓珅;田利 申請（專利權(quán)）人 菏澤天宇科技開發(fā)有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所 代理人 張貴賓
地址 274000 山東省菏澤市開發(fā)區(qū)黃河?xùn)|路三里河工業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及泡沫金屬生產(chǎn)領(lǐng)域，特別涉及一種真空鍍膜冷卻裝置。該真空鍍膜冷卻裝置，包括殼體，殼體上下分別設(shè)有法蘭；所述殼體內(nèi)壁上設(shè)有N組相對的陰極靶和冷卻裝置；所述冷卻裝置與循環(huán)管相連，陰極靶與設(shè)在殼體外壁的濺射電源相連；所述冷卻裝置與密封室連接，該密封室固定在殼體內(nèi)壁上；所述濺射電源等通過PCL控制器控制。本發(fā)明為鍍膜區(qū)域提供良好的溫度環(huán)境，其膜芯溫度在?10℃～80℃范圍內(nèi)可控；本發(fā)明冷卻機(jī)構(gòu)與膜芯充分接觸，利用冷卻機(jī)構(gòu)里的冷卻介質(zhì)將膜芯上的熱量帶走。避免造成膜芯結(jié)構(gòu)的損傷，從而達(dá)到提高泡沫金屬的產(chǎn)品質(zhì)量之目的。