一種用于雙槍雙進(jìn)料系統(tǒng)電子束熔煉爐的磁屏蔽系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011268727.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112410575A 公開（公告）日 2021-02-26
申請公布號 CN112410575A 申請公布日 2021-02-26
分類號 C22B9/22(2006.01)I;B21B1/38(2006.01)I 分類 冶金；黑色或有色金屬合金；合金或有色金屬的處理;
發(fā)明人 賈志強(qiáng);李蛟;朱紹珍;周龍海;文琳 申請（專利權(quán)）人 西安諾博爾稀貴金屬材料股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 西安啟誠專利知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 馮亮
地址 710201陜西省西安市西安經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)涇渭新城涇高北路中段18號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于雙槍雙進(jìn)料系統(tǒng)電子束熔煉爐的磁屏蔽系統(tǒng)，雙槍雙進(jìn)料系統(tǒng)電子束熔煉爐包括電子束熔煉室、電子束槍、第一進(jìn)料通道、第二進(jìn)料通道和出料通道，電子束熔煉室內(nèi)設(shè)置有磁屏蔽復(fù)合罩，磁屏蔽復(fù)合罩形成屏蔽腔，屏蔽腔內(nèi)可拆卸設(shè)置有吸收罩，結(jié)晶器位于屏蔽腔內(nèi)；磁屏蔽復(fù)合罩上開設(shè)有電子束槍開口、進(jìn)料口和出料口；吸收罩位于結(jié)晶器上方，吸收罩上開設(shè)有通口，本發(fā)明可實(shí)現(xiàn)電磁屏蔽、間隙原子雜質(zhì)(C、H、O、N)吸收和熔煉揮發(fā)物收集，可以有效防止外部電磁場對電子束控制的影響，使電子束軌跡可控且穩(wěn)定，還能夠滿足電子束熔煉的特殊工業(yè)要求，更有利于材料的提純，實(shí)現(xiàn)熔煉效率、安全性和鑄錠提純效果三重兼顧和提升。??