用于制造高密度ITO濺射靶的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200980102084.7 申請日 -
公開（公告）號 CN101910087A 公開（公告）日 2010-12-08
申請公布號 CN101910087A 申請公布日 2010-12-08
分類號 C04B35/457(2006.01)I;C04B35/64(2006.01)I;B28B1/26(2006.01)I;B28B7/38(2006.01)I;C01G19/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I 分類 水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料〔4〕;
發(fā)明人 C·E·金;D·俾路支 申請（專利權(quán)）人 深圳賽麗圖光電新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 BIZESP有限公司;深圳賽麗圖光電新材料科技有限公司
地址 英國牛津郡
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 描述了一種制造氧化銦錫(ITO)濺射靶的方法，該方法包括沉淀氫氧化銦和氫氧化錫，在氯離子存在下燒結(jié)，使用所得到的氧化物粉末以制備具有分散劑、粘結(jié)劑、特別高密度的促進(jìn)劑的含水粉漿，以及使用粉漿澆注的方法在特定的表面涂布的多孔鑄模中壓實(shí)該粉漿，隨后燒結(jié)所得到的壓實(shí)靶體，以產(chǎn)生高密度的ITO靶。