一種納米級(jí)厚度獨(dú)立自支撐褶皺石墨烯膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201710955058.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN107651673B 公開（公告）日 2020-01-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN107651673B 申請(qǐng)公布日 2020-01-10
分類號(hào) C01B32/184;B82Y30/00;B82Y40/00 分類 無機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 高超;彭蠡 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州德烯科技集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 代理人 黃歡娣;邱啟旺
地址 313100 浙江省湖州市長(zhǎng)興經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)明珠路1278號(hào)長(zhǎng)興世貿(mào)大廈8層830室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種納米級(jí)厚度獨(dú)立自支撐褶皺石墨烯膜及其制備方法，該石墨烯膜由氧化石墨烯經(jīng)過抽濾成膜、化學(xué)還原、以及高溫處理等步驟得到。該石墨烯膜由單層石墨烯通過物理交聯(lián)組成，其中石墨烯基元結(jié)構(gòu)完整，沒有明顯缺陷，富含褶皺，片層間亂層結(jié)構(gòu)含量超過30％。其厚度極薄(16?130nm)，表面具有大量皺褶，因而具有極好的柔性。