一種類金剛石涂層的退膜處理裝置及其使用方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910736995.0 申請日 -
公開（公告）號 CN110423994A 公開（公告）日 2019-11-08
申請公布號 CN110423994A 申請公布日 2019-11-08
分類號 C23C16/02（2006.01）I; C23C16/27（2006.01）I; C23G5/00（2006.01）I; B08B3/12（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃仕江; 蔣源; 袁明 申請（專利權(quán)）人 上海妙殼新材料科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 201311 上海市浦東新區(qū)大團(tuán)鎮(zhèn)東大公路2458號1幢5600室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種類金剛石涂層的退膜處理裝置及其使用方法，所述真空腔的上端插接有左右兩個深入到真空腔內(nèi)的電極，且兩個電極的內(nèi)端連接有燈絲，兩個電極的外端之間通過燈絲電源連接，所述工件臺上設(shè)置有基體，且轉(zhuǎn)軸與真空腔之間設(shè)置有偏壓電源，所述真空腔上分別開設(shè)有氬氣進(jìn)入口、氧氣進(jìn)入口和氫氣進(jìn)入口，且真空腔上開設(shè)有抽氣口。其使用方法，包括以下步驟：S1基礎(chǔ)設(shè)定、S2偏壓電源設(shè)定、S3氣體通入設(shè)定和S4清洗。在偏壓電源的作用下，兩個電極電離內(nèi)部的氫氣，產(chǎn)生活化態(tài)的氫離子，刻蝕類金剛石涂層，同時，還能保證底層和過渡層的存在，不會損壞帶內(nèi)部的工件，在氫氣的擠出上，氬氣能增加刻蝕速度，氧氣也能加速刻蝕。