一種熱陽極法生產(chǎn)高性能類金剛石的裝置及其使用方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910658837.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110257797A 公開（公告）日 2019-09-20
申請公布號 CN110257797A 申請公布日 2019-09-20
分類號 C23C16/26（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃仕江; 蔣源; 袁明 申請（專利權(quán)）人 上海妙殼新材料科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 201311 上海市浦東新區(qū)大團鎮(zhèn)東大公路2458號1幢5600室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種熱陽極法生產(chǎn)高性能類金剛石的裝置，所述陰極弧源與真空腔體之間通過交流電源連接，且真空腔體的左側(cè)設(shè)置有位于前后側(cè)的第三磁場和第二磁場，所述真空腔體的內(nèi)腔右側(cè)設(shè)置有熱陽極，且熱陽極與左側(cè)的陰極弧源之間設(shè)置有隔離板，所述真空腔體上開設(shè)有與熱陽極對應(yīng)的氣體進入口，且熱陽極與真空腔體之間通過直流電源連接。其使用方法包括以下步驟：S1靶材選擇、S2熱陽極選擇、S3氣體選擇和S4陰極弧源設(shè)置。在該發(fā)明中，我們使用的是陰極弧源和熱陽極來離化含C的氣體，其離化電流高達100?400A,可以穩(wěn)定的高速沉積含H比較小的致密的優(yōu)質(zhì)的金剛石,其含H量小于15％，沉積速度可以達到8微米/小時。