一種刀具涂層及其生產(chǎn)設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910658848.6 申請日 -
公開（公告）號 CN110273127A 公開（公告）日 2019-09-24
申請公布號 CN110273127A 申請公布日 2019-09-24
分類號 C23C14/16;C23C14/06;C23C14/50;C23C16/06;C23C16/34;C23C16/36;C23C16/458;C23C14/22 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃仕江;蔣源;袁明 申請（專利權(quán)）人 上海妙殼新材料科技有限公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 201311 上海市浦東新區(qū)大團鎮(zhèn)東大公路2458號1幢5600室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種刀具涂層，由內(nèi)到外依次設(shè)置金屬層、連接層、納米多層耐磨層和自潤滑層，所述金屬層為Ti，連接層為TiN或TiAlN，納米多層耐磨層為TiAlN或AlCrWSiCN，自潤滑層為AlCrWSiCN。與真空腔連接的通入氮氣的進氣口以及設(shè)置在真空腔體上的抽氣口，所述真空腔的中部設(shè)置有可以旋轉(zhuǎn)的盛放工件的旋轉(zhuǎn)臺，所述真空腔內(nèi)沿著逆時針方向依次設(shè)置有離化源、以Ti作為材料的A靶、以TiAl為材料的B靶以及以AlCrWSi為材料的C靶，且A靶、B靶和C靶均連接有偏壓電源，所述A靶和離化源位于抽氣口的兩側(cè)。以Ti作為基礎(chǔ)層，結(jié)合能力更強，連接層為TiN或TiAlN，具有低應(yīng)力，以TiAlN或AlCrWSiCN為納米多層耐磨層，耐磨性好，強度更高，以AlCrWSiCN為自潤滑層，減小摩擦，特別形成了含AlCrWSi的DLC層。