一種倒置結(jié)構(gòu)紫外有機(jī)發(fā)光器件雙電子注入層的制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910867534.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110518139B 公開（公告）日 2021-08-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN110518139B 申請(qǐng)公布日 2021-08-24
分類號(hào) H01L51/50;H01L51/56 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 張小文;李皖蜀;徐凱;許積文;陳國(guó)華;王立惠;盧宗柳 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 中國(guó)有色桂林礦產(chǎn)地質(zhì)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州市一新專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 代理人 侯騰騰
地址 541004 廣西壯族自治區(qū)桂林市七星區(qū)金雞路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種倒置結(jié)構(gòu)紫外有機(jī)發(fā)光器件雙電子注入層的制備方法，包括步驟：（1）用無(wú)水乙醇洗滌CsWOx粉末，然后過(guò)濾、干燥、加入去離子水，得到CsWOx水性溶液。（2）將35?45nm的金屬鉬粉末及10?14μm的金屬鎢粉末加入到盛有異丙醇的容器中，金屬鉬粉末與金屬鎢粉末重量比1:（1.8?2.0），然后再加入H2O2攪拌，得到懸浮液。（3）將整個(gè)容器放入高壓反應(yīng)釜中，在160°C的環(huán)境下加熱12小時(shí)，冷卻至室溫后離心收集沉淀物，所收集的沉淀物再用無(wú)水乙醇洗滌，得到MoWOx乙醇溶液。（4）將CsWOx水性溶液旋涂在處理好的ITO表面上并做退火處理；然后在其上再旋涂MoWOx乙醇溶液并做退火處理。