一種鍍制線性衰減片的可變夾具結構

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121288848.0 申請日 -
公開（公告）號 CN215560628U 公開（公告）日 2022-01-18
申請公布號 CN215560628U 申請公布日 2022-01-18
分類號 C23C14/34（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陸錦惠;張金寨 申請（專利權）人 上海鴻輝光聯(lián)通訊技術有限公司
代理機構 上海灣谷知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 倪繼祖
地址 201822上海市嘉定區(qū)馬陸鎮(zhèn)橫倉公路2465號6幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種鍍制線性衰減片的可變夾具結構，包括：濺射鍍膜設備，以及設置在所述濺射鍍膜設備內的真空室，包括：設置在所述真空室內的基片；設置在所述真空室內，用于轉動所述基片的主軸；設置在所述基片上，用于遮擋所述基片的第一遮板和第二遮板；以及用于調整所述第一遮板和所述第二遮板遮擋角度的凸輪。所述主軸上固定有底板；所述基片通過所述基片壓板固定在所述底板上。所述真空室內固定有遮板支架，所述遮板支架包括：兩個固定板，兩個所述固定板的左端活動串聯(lián)在一起。能夠有效解決濺射鍍膜時，每次因為鍍制不同的衰減片而需要制作不同形狀的遮板的問題。