對合成孔徑雷達的多維復(fù)合調(diào)制干擾方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010689237.0 申請日 -
公開(公告)號 CN111983571B 公開(公告)日 2021-08-24
申請公布號 CN111983571B 申請公布日 2021-08-24
分類號 G01S7/38(2006.01)I 分類 測量;測試;
發(fā)明人 吳彥鴻;張合敏;吳守林;馬可;王珺 申請(專利權(quán))人 北京宏銳星通科技有限公司
代理機構(gòu) 北京理工大學(xué)專利中心 代理人 代麗;郭德忠
地址 100085北京市海淀區(qū)上地東路1號院3號樓七層701-704室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了對合成孔徑雷達的多維復(fù)合調(diào)制干擾方法,能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)分布的干擾圖像塊狀覆蓋,干擾圖像覆蓋范圍和遮蓋強度獨立可控,且可以產(chǎn)生距離超前覆蓋。本發(fā)明可實現(xiàn)連續(xù)分布的面目標(biāo)干擾圖像,突破了常規(guī)方法用點目標(biāo)組合產(chǎn)生點目標(biāo)陣或點目標(biāo)群的限制;二是干擾圖像覆蓋范圍和遮蓋強度獨立可控。