微型復(fù)雜件的多面檢測(cè)方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201710859950.3 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN107860310B | 公開(公告)日 | 2020-04-21 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN107860310B | 申請(qǐng)公布日 | 2020-04-21 |
分類號(hào) | G01B11/00 | 分類 | 測(cè)量;測(cè)試; |
發(fā)明人 | 張柯;高萬順;張偉明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 東莞華晶粉末冶金有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 東莞華晶粉末冶金有限公司;廣東勁勝智能集團(tuán)股份有限公司 |
地址 | 523000 廣東省東莞市東城街道牛山外經(jīng)工業(yè)園偉豐路2號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種微型復(fù)雜件的多面檢測(cè)方法,其包括以下步驟:將微型復(fù)雜件置于二次元測(cè)量平臺(tái)上;測(cè)量微型復(fù)雜件于二次元測(cè)量平臺(tái)的檢測(cè)面上的尺寸;對(duì)于微型復(fù)雜件的每一側(cè)面,將一個(gè)拼接長(zhǎng)方體置于微型復(fù)雜件的一側(cè)面旁并使拼接長(zhǎng)方體與微型復(fù)雜件相接觸;測(cè)量拼接長(zhǎng)方體對(duì)微型復(fù)雜件的該側(cè)面的反射投影于二次元測(cè)量平臺(tái)的檢測(cè)面上的尺寸;將兩個(gè)拼接長(zhǎng)方體對(duì)稱并排置于二次元測(cè)量平臺(tái)上,將微型復(fù)雜件置于其中一個(gè)拼接長(zhǎng)方體上,測(cè)量另一個(gè)拼接長(zhǎng)方體對(duì)微型復(fù)雜件的底面的反射投影于二次元測(cè)量平臺(tái)的檢測(cè)面上的尺寸。上述微型復(fù)雜件的多面檢測(cè)方法能夠精確測(cè)量微型復(fù)雜件的各個(gè)面的微結(jié)構(gòu),提升了測(cè)量效率。 |
