一種光刻膠顯影殘?jiān)コ椒?/p>
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110160658.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112859555A | 公開（公告）日 | 2021-05-28 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112859555A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-28 |
| 分類號(hào) | G03F7/42(2006.01)I;G03F7/30(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 方小磊;葉武陽;劉耀聰;李天成;呂磊;蔡雨杉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 長(zhǎng)春長(zhǎng)光圓辰微電子技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 長(zhǎng)春中科長(zhǎng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 高一明;郭婷 |
| 地址 | 130000吉林省長(zhǎng)春市經(jīng)開區(qū)營(yíng)口路18號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體芯片加工制造領(lǐng)域。本發(fā)明提供一種光刻膠顯影殘?jiān)コ椒?，在常?guī)顯影裝置機(jī)械臂上增加一套二流體噴嘴，所述二流體噴嘴將去離子水和高純氮?dú)馔瑫r(shí)噴灑到硅片表面，并通過機(jī)械臂帶動(dòng)所述二流體噴嘴移動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)硅片的掃描式清洗。與加大顯影液用量和延長(zhǎng)顯影時(shí)間相比，本發(fā)明提出的方案僅僅需要簡(jiǎn)單的設(shè)備改造和程式修改，可以將光刻膠殘?jiān)鼜氐兹コ挥绊憟D案的關(guān)鍵尺寸和形貌，從而節(jié)約成本、提高產(chǎn)能。?? |
