一種微小壓力光學測量方法與校準裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111349631.0 申請日 -
公開（公告）號 CN114112172A 公開（公告）日 2022-03-01
申請公布號 CN114112172A 申請公布日 2022-03-01
分類號 G01L11/02（2006.01）I;G01L27/00（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 謝興娟;楊軍;李博;田森 申請（專利權）人 中國航空工業(yè)集團公司北京長城計量測試技術研究所
代理機構 北京正陽理工知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 王松
地址 100095北京市海淀區(qū)溫泉鎮(zhèn)環(huán)山村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開的一種微小壓力光學測量方法與校準裝置，屬于計量測試技術領域。本發(fā)明主要由振動臺、活塞、變容積機構、壓力測試腔、激光干涉測量系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。壓力測試腔與變容積機構連接，振動臺與活塞桿連接，活塞桿深入變容積機構內，振動臺運動驅動變容積機構使其內壓力腔容積變化，同時帶動壓力測試腔內的壓力產生變化。利用激光干涉光學系統(tǒng)實現(xiàn)微小壓力的高精度溯源，其中壓力測試腔內有多個高反射面，通過對入射光的多次反射，增加腔內激光傳輸路徑，在小尺寸壓力腔內增大測量光程，解決腔長尺寸和壓力穩(wěn)定性、動態(tài)響應之間的矛盾，提高壓力測量的靈敏度和精度，能夠實現(xiàn)針對微小靜態(tài)或動態(tài)壓力的精確測量和校準。