一種高對(duì)比度投影幕
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202020510127.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211478863U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-09-11 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211478863U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-09-11 |
| 分類號(hào) | G03B21/60(2014.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 周永南 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇慧智新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海正策律師事務(wù)所 | 代理人 | 江蘇慧智新材料科技有限公司 |
| 地址 | 222000江蘇省連云港市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)花果山大道601號(hào)新海連大廈 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種高對(duì)比度投影幕，包括基材層，及光學(xué)微結(jié)構(gòu)陣列層；在所述基材層與所述光學(xué)微結(jié)構(gòu)陣列層之間，設(shè)置漫反射結(jié)構(gòu)。所述光學(xué)微結(jié)構(gòu)陣列層設(shè)有一定厚度的基底；所述基底與所述基材層接觸部位的所述漫反射結(jié)構(gòu)為凹凸霧面；所述凹凸霧面為不規(guī)則形狀的微結(jié)構(gòu)。所述基材層分為支撐基材層和吸收基材層；所述吸收基材層的表面設(shè)有所述凹凸霧面，通過(guò)所述凹凸霧面與所述光學(xué)微結(jié)構(gòu)陣列層進(jìn)行連接。本實(shí)用新型一種高對(duì)比度投影幕，跟現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下優(yōu)點(diǎn)：(1)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)；(2)通過(guò)對(duì)環(huán)境光源的充分吸收，來(lái)提高投影幕的對(duì)比度。?? |
