一種具有高開關(guān)速度的平面柵器件結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921253115.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210073861U | 公開(公告)日 | 2020-02-14 |
申請公布號 | CN210073861U | 申請公布日 | 2020-02-14 |
分類號 | H01L29/423;H01L29/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 饒祖剛;王民安;項建輝;鄭科峰 | 申請(專利權(quán))人 | 黃山芯微電子股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 蕪湖眾匯知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 安徽省祁門縣黃山電器有限責(zé)任公司;黃山芯微電子股份有限公司 |
地址 | 245600 安徽省黃山市祁門縣新興路449號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種具有高開關(guān)速度的平面柵器件結(jié)構(gòu)及其制造方法,該平面柵器件結(jié)構(gòu),包括半導(dǎo)體襯底或外延層,所述半導(dǎo)體襯底或外延層上間隔設(shè)置有一組平面柵,所述平面柵包括設(shè)置在中間位置的第一柵電極絕緣層,從第一柵電極絕緣層向兩側(cè)延伸的第二柵電極絕緣層及設(shè)置在第一柵電極絕緣層和第二柵電極絕緣層上的柵電極,所述第一柵電極絕緣層的厚度大于第二柵電極絕緣層的厚度。該結(jié)構(gòu)的平面柵加工方法簡單且易于實現(xiàn),具有該平面柵結(jié)構(gòu)的器件具有更低的柵漏電容,更快的開關(guān)速度和更低的開關(guān)功耗,可廣泛應(yīng)用于MOSFET、IGBT和MCT等功率半導(dǎo)體器件領(lǐng)域。 |
