一種掩膜版圖形關(guān)鍵尺寸精度優(yōu)化方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210205001.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114545727A 公開（公告）日 2022-05-27
申請公布號 CN114545727A 申請公布日 2022-05-27
分類號 G03F1/36（2012.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 徐智俊;李文;徐兵;杜曉威 申請（專利權(quán)）人 合肥清溢光電有限公司
代理機構(gòu) 合肥律眾知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 -
地址 230000安徽省合肥市新站區(qū)谷河路與通淮路交口東北角
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及掩膜版光刻曝光，具體涉及一種掩膜版圖形關(guān)鍵尺寸精度優(yōu)化方法，設計具有不同圖形縫隙面積占比ε的圖形，并進行曝光量δ設計；采用固定的濕法制程工藝和CD測量系統(tǒng)，并計算關(guān)鍵尺寸偏差，建立曝光量δ與圖形縫隙面積占比ε的關(guān)鍵尺寸偏差模型；截取客戶訂單主圖形，分析計算對應的圖形縫隙面積占比ε；基于關(guān)鍵尺寸偏差模型選擇合適的曝光量δ，并根據(jù)關(guān)鍵尺寸偏差結(jié)果進行優(yōu)化；本發(fā)明提供的技術(shù)方案能夠有效克服現(xiàn)有技術(shù)所存在的光刻曝光圖形在關(guān)鍵尺寸上與設計值之間存在不穩(wěn)定偏差的缺陷。