一種硅片清洗裝置與設(shè)備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022150588.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213826084U | 公開(公告)日 | 2021-07-30 |
申請公布號 | CN213826084U | 申請公布日 | 2021-07-30 |
分類號 | B08B3/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 清潔; |
發(fā)明人 | 葉順成 | 申請(專利權(quán))人 | 泉芯集成電路制造(濟(jì)南)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 李莎 |
地址 | 250000山東省濟(jì)南市高新區(qū)機(jī)場路7617號411-2-9室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請?zhí)峁┝艘环N硅片清洗裝置與設(shè)備,涉及硅片生產(chǎn)制備技術(shù)領(lǐng)域。該硅片清洗裝置包括:硅片夾具,用于夾持待清洗硅片;噴灑桿,噴灑桿內(nèi)設(shè)置有通道,通道用于通入化學(xué)清洗液,并朝向待清洗硅片噴灑化學(xué)清洗液;定位器,安裝于噴灑桿,用于定位待清洗硅片的圓心或硅片夾具的中心,并確定定位角度,以通過定位角度調(diào)節(jié)化學(xué)清洗液的噴灑角度。本申請?zhí)峁┑墓杵逑囱b置與設(shè)備具有即使不同工程師對硅片進(jìn)行清洗操作,對硅片上的研磨顆粒清洗效果的差異也不會太大,利于后期對硅片的加工。 |
