一種線寬的測量方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110264099.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113053768A | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請公布號 | CN113053768A | 申請公布日 | 2021-06-29 |
分類號 | H01L21/66;H01L23/544 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳慶煌;柯思羽;陳國強;劉志成 | 申請(專利權(quán))人 | 泉芯集成電路制造(濟南)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 駱宗力 |
地址 | 250101 山東省濟南市高新區(qū)機場路7617號411-2-9室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種線寬的測量方法,通過將光刻膠層的顯影區(qū)域圖案轉(zhuǎn)移到測試基材上,進而通過對測試基材進行測量即能完成對顯示區(qū)域進行測量的目的。并且,由于測試基材覆蓋光刻膠層且填充光刻膠層的顯影區(qū)域的部分的熱膨脹系數(shù)小于光刻膠層的熱膨脹系數(shù),測試基材該部分出現(xiàn)受熱形變的情況較小,進而在采用電子顯微鏡采集測試基材上線寬數(shù)據(jù)時出現(xiàn)尺寸失真的情況有所改善,亦即改善了對光刻膠層的顯影區(qū)域的線寬進行測量時出現(xiàn)的尺寸失真的情況,保證線寬的測量準(zhǔn)確度高。 |
