多結多疊層硅基薄膜太陽能電池及其制造工藝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310588781.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN103594536B | 公開(公告)日 | 2017-04-19 |
申請公布號 | CN103594536B | 申請公布日 | 2017-04-19 |
分類號 | H01L31/042(2014.01)I;H01L31/076(2012.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張峰;李廷凱;毛炳雪;譚學仕;楊晶晶 | 申請(專利權)人 | 湖南共創(chuàng)光伏科技有限公司 |
代理機構 | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 | 代理人 | 馬強 |
地址 | 421001 湖南省衡陽市雁峰區(qū)白沙洲工業(yè)園區(qū)鴻園路1號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提出了一種多結多疊層硅基薄膜太陽能電池及其制造方法。該方法包括:在鍍硅薄膜前對基板進預熱處理;在TCO前電極上形成p?A?SiC接觸層;在p?A?SiC接觸層上形成p?A?SiC窗口層;在p?A?SiC緩沖層上形成疊層i?A?SiC本征層。本發(fā)明采用寬帶隙接觸層來降低與TCO前電極之間的界面電阻,通過寬帶隙窗口層提升頂電池對短波長藍光的吸收,采用寬帶隙緩沖層減少界面壁壘,降低電池的串聯(lián)電阻及光吸收損失,同時在非晶碳化硅本征層中采用疊層結構,采用梯度式摻雜,形成具有梯度帶隙寬度的非晶碳化硅本征層,從而提高電池的短路電流密度及光電轉換效率。 |
