一種基于高純半絕緣碳化硅襯底制備周期性pn結(jié)石墨烯的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010713285.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN111874891B | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-11-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN111874891B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-11-16 |
分類(lèi)號(hào) | C01B32/184(2017.01)I;H01L31/028(2006.01)I;H01L31/103(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I | 分類(lèi) | 無(wú)機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 張福生;楊昆;路亞娟;劉新輝;牛曉龍;崔景光;尚遠(yuǎn)航 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 河北同光半導(dǎo)體股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京盛詢知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉靜 |
地址 | 071000 河北省保定市北三環(huán)6001號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種基于高純半絕緣碳化硅襯底制備周期性pn結(jié)石墨烯的方法,屬于微電子材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明采用熱解碳化硅制備石墨烯的方法,首先利用氫刻蝕的方法在碳化硅襯底表面刻蝕出規(guī)則的臺(tái)階,再在刻蝕后的碳化硅硅面生長(zhǎng)出單層石墨烯條帶和緩沖層結(jié)構(gòu)交替的結(jié)構(gòu)。最后通過(guò)氫鈍化技術(shù)將原有的緩沖層結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)閜型導(dǎo)電的石墨烯,而原有單層石墨烯仍保持為n型導(dǎo)電。從而就可以制備出周期性pn結(jié)石墨烯。本發(fā)明方法制備的高品質(zhì)周期性pn結(jié)石墨烯,可以廣泛地應(yīng)用在增強(qiáng)型光電探測(cè)器、光敏元件以及邏輯運(yùn)算場(chǎng)效應(yīng)晶體管等信息電子器件領(lǐng)域。 |
