一種介穩(wěn)態(tài)控制制備金剛石的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110574749.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113026001A | 公開(公告)日 | 2021-08-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113026001A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-17 |
分類號(hào) | C23C16/52;C23C16/27;C23C16/50;C23C16/46 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 王濤;魏遠(yuǎn)征;張雪梅;吳劍波;朱長(zhǎng)征;徐念;龔闖;王簫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州香榭軒表面工程技術(shù)咨詢有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 汪青;向亞蘭 |
地址 | 200000 上海市青浦區(qū)華浦路500號(hào)2幢西側(cè) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種介穩(wěn)態(tài)控制制備金剛石的方法,該方法采用等離子體化學(xué)氣相沉積法,在沉積臺(tái)上進(jìn)行沉積形成金剛石;其中,該制備方法包括設(shè)置溫度控制系統(tǒng),以及利用溫度控制系統(tǒng)控制沉積過程中沉積臺(tái)下方的溫度自上而下按照設(shè)定的梯度遞減,以及使得沉積臺(tái)在沿沉積面延伸方向上的溫度的變化低于5攝氏度;本發(fā)明方法通過對(duì)金剛石沉積過程尤其是沉積界面能量的精準(zhǔn)控制,實(shí)現(xiàn)了金剛石的定向、定型且高質(zhì)量的穩(wěn)定生長(zhǎng)。 |
