一種快速換靶單面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510068221.7 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN104674181B 公開（公告）日 2017-01-25
申請(qǐng)公布號(hào) CN104674181B 申請(qǐng)公布日 2017-01-25
分類號(hào) C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱錫芳;徐安成;楊輝;許清泉;陳功 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 常州常工院技術(shù)轉(zhuǎn)移有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京知識(shí)律師事務(wù)所 代理人 常州工學(xué)院
地址 213031 江蘇省常州市新北區(qū)遼河路666號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種快速換靶單面往復(fù)連續(xù)鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，屬于鍍膜設(shè)備領(lǐng)域。本發(fā)明包括真空室、開卷機(jī)構(gòu)、冷卻輥、收卷機(jī)構(gòu)、陰極小室、糾偏裝置和回轉(zhuǎn)換靶裝置，開卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)處各設(shè)有一組糾偏裝置；冷卻輥、陰極小室和回轉(zhuǎn)換靶裝置處于同一軸線上；回轉(zhuǎn)換靶裝置包括機(jī)座、回轉(zhuǎn)盤、回轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、軸向伸縮機(jī)構(gòu)、兩個(gè)或兩個(gè)以上的伸縮軸套、極靶座板和徑向伸縮機(jī)構(gòu)，當(dāng)軸向伸縮機(jī)構(gòu)收縮后，徑向伸縮機(jī)構(gòu)剛好位于一個(gè)伸縮軸套的下方；開卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)帶動(dòng)基帶實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)。本發(fā)明在不打開真空室的情況下即可快速更換陰極靶，并利用基材往復(fù)運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)多層膜層的連續(xù)鍍制，每層膜均能單獨(dú)鍍制，便于膜層參數(shù)的控制；設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊。