一種快速換靶單面往復(fù)連續(xù)高效鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510066781.9 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN104611681B 公開（公告）日 2017-01-25
申請公布號(hào) CN104611681B 申請公布日 2017-01-25
分類號(hào) C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱錫芳;陳功;徐安成;許清泉;楊輝 申請（專利權(quán)）人 常州常工院技術(shù)轉(zhuǎn)移有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京知識(shí)律師事務(wù)所 代理人 高桂珍
地址 213031 江蘇省常州市新北區(qū)遼河路666號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種快速換靶單面往復(fù)連續(xù)高效鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)，屬于鍍膜設(shè)備領(lǐng)域。本發(fā)明包括真空室、開卷機(jī)構(gòu)、收卷機(jī)構(gòu)、冷輥、糾偏裝置、兩個(gè)或兩個(gè)以上的回轉(zhuǎn)換靶裝置、以及與每個(gè)回轉(zhuǎn)換靶裝置位置相對應(yīng)的兩面開口的陰極小室，開卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)處各設(shè)有一組糾偏裝置；陰極小室分布于冷輥包覆有基帶的圓周面上，且每組回轉(zhuǎn)換靶裝置及與其對應(yīng)的陰極小室均與冷輥設(shè)于同一軸線上；開卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)帶動(dòng)基帶實(shí)現(xiàn)往復(fù)運(yùn)動(dòng)。本發(fā)明在不打開鍍膜真空室的情況下即可及時(shí)快速更換陰極靶，并利用基材往復(fù)運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)多層膜層的鍍制；一次鍍膜行程可以完成多層膜層的鍍制，大大提高了鍍膜效率，尤其適合于大批量高效率生產(chǎn)。