氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201220067049.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN202465289U 公開(kāi)（公告）日 2012-10-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN202465289U 申請(qǐng)公布日 2012-10-03
分類號(hào) C01B33/107(2006.01)I;C01B33/03(2006.01)I 分類 無(wú)機(jī)化學(xué);
發(fā)明人 張靜;馮鐵軍;鈔蓓;趙軍強(qiáng);王攀 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 蘭州蘭石四方容器設(shè)備有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 730050 甘肅省蘭州市七里河區(qū)西津西路246號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種氫化爐底盤冷卻結(jié)構(gòu)，克服了現(xiàn)有技術(shù)底盤較厚，冷卻效果差，容易在高溫下失效的缺點(diǎn)。技術(shù)方案是將底盤的冷卻腔結(jié)構(gòu)整體去除，將底盤設(shè)計(jì)為中空結(jié)構(gòu)，在環(huán)形鍛件底環(huán)1上、上底板3與下底板4之間的空間設(shè)置密封的循環(huán)水通道。所述的環(huán)形鍛件底環(huán)1上的循環(huán)水通道是在內(nèi)側(cè)邊緣上加工出矩形環(huán)向冷卻水槽2，與上底板3焊接相連，以對(duì)冷卻水槽2形成密封。上底板3與下底板4之間的循環(huán)水通道內(nèi)安置導(dǎo)流板10。由此，保證氫化爐底盤在使用過(guò)程中，內(nèi)部溫度控制在安全溫度之內(nèi)，確保設(shè)備使用安全，延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。