一種鑄造類單晶用籽晶的重復利用方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010357713.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113564689A | 公開(公告)日 | 2021-10-29 |
申請公布號 | CN113564689A | 申請公布日 | 2021-10-29 |
分類號 | C30B11/00(2006.01)I;C30B11/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 何亮;何新根;雷琦;毛偉;徐云飛;周成;羅鴻志;程小娟;鄒貴付;甘勝泉;陳仙輝 | 申請(專利權(quán))人 | 賽維LDK太陽能高科技(新余)有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標代理有限公司 | 代理人 | 熊永強 |
地址 | 338000江西省新余市高新經(jīng)濟開發(fā)區(qū)賽維工業(yè)園專利辦公室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種鑄造類單晶用籽晶的重復利用方法,包括:(1)將類單晶硅錠的開方尺寸相同的單晶硅籽晶拼接鋪設在坩堝底部,形成籽晶層;并利用該籽晶層制得類單晶硅錠;(2)將類單晶硅錠的底面朝上,將底面上的籽晶拼接縫用縫隙標記線標出,并使其延伸至類單晶硅錠的四個側(cè)面;對類單晶硅錠開方得到多個第一硅塊,且在開方前使開方鋼線與籽晶拼接縫對齊,將第一硅塊對應坩堝底部和開口的兩個端面打磨平整后,再切割掉其上的籽晶區(qū)域,得到回收后的多塊單晶硅籽晶,并標記每塊的類型;(3)將步驟(2)得到的籽晶按步驟(1)的方法進行再利用。該方法可實現(xiàn)籽晶的多次高質(zhì)量重復利用,降低了鑄造類單晶的籽晶成本。 |
