一種高效整流器及其制造方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910712156.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110534584A 公開(kāi)（公告）日 2019-12-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN110534584A 申請(qǐng)公布日 2019-12-03
分類(lèi)號(hào) H01L29/872;H01L21/329 分類(lèi) 基本電氣元件;
發(fā)明人 陳文鎖;徐向濤;張成方;廖瑞金 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 重慶平偉伏特集成電路封測(cè)應(yīng)用產(chǎn)業(yè)研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) 重慶大學(xué)專(zhuān)利中心 代理人 重慶大學(xué);重慶平偉伏特集成電路封測(cè)應(yīng)用產(chǎn)業(yè)研究院有限公司
地址 400044 重慶市沙坪壩區(qū)沙正街174號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種高效整流器及其制造方法，高效整流器包括下電極層、重?fù)诫s第一導(dǎo)電類(lèi)型襯底層、第一導(dǎo)電類(lèi)型漂移層、溝槽柵介質(zhì)區(qū)、溝槽柵填充區(qū)、肖特基勢(shì)壘接觸區(qū)、隔離介質(zhì)區(qū)和上電極層。制造方法步驟為：1)準(zhǔn)備重?fù)诫s第一導(dǎo)電類(lèi)型襯底層；2)形成第一導(dǎo)電類(lèi)型漂移層；3)在第一導(dǎo)電類(lèi)型漂移層表面刻蝕出槽型；4)形成溝槽柵介質(zhì)區(qū)；5)形成溝槽柵填充區(qū)；6)形成隔離介質(zhì)區(qū)；7)形成肖特基勢(shì)壘接觸區(qū)；8)形成上電極層；9)形成下電極層。本發(fā)明在不增加制造工藝步驟和制造成本的基礎(chǔ)上獲得反向恢復(fù)時(shí)間短，開(kāi)關(guān)損耗小的性能。