一種高頻快恢復(fù)二極管及其制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201711465726.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN108183135A | 公開(公告)日 | 2018-06-19 |
申請公布號 | CN108183135A | 申請公布日 | 2018-06-19 |
分類號 | H01L29/868;H01L21/329;H01L29/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 王興龍;王利軍;鄧令;劉章利 | 申請(專利權(quán))人 | 重慶平偉伏特集成電路封測應(yīng)用產(chǎn)業(yè)研究院有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 重慶市前沿專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 重慶平偉伏特集成電路封測應(yīng)用產(chǎn)業(yè)研究院有限公司 |
地址 | 405200 重慶市梁平區(qū)梁山鎮(zhèn)皂角村(雙桂工業(yè)園區(qū)) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種高頻快恢復(fù)二極管,該二極管在襯底層上設(shè)置有與襯底層導(dǎo)電類型相同的外延層,在外延層上設(shè)置有M個(gè)擴(kuò)散環(huán),擴(kuò)散環(huán)的導(dǎo)電類型與外延層的導(dǎo)電類型相反,在同一BSIT結(jié)構(gòu)擴(kuò)散環(huán)的相鄰環(huán)之間的外延層上設(shè)置有與外延層導(dǎo)電類型相同的摻雜層,摻雜層橫向延伸入相應(yīng)擴(kuò)散環(huán)內(nèi)部一定距離,在摻雜層之上設(shè)置有第一金屬層形成肖特基勢壘;在形成的器件表面墊積絕緣保護(hù)層,絕緣保護(hù)層上設(shè)置有貫通至第一金屬層和擴(kuò)散環(huán)的金屬接觸孔,在絕緣保護(hù)層上設(shè)置有正面金屬層;在襯底層之下設(shè)置有背面金屬層。本發(fā)明能夠降低正向電壓導(dǎo)通時(shí)的損耗,大幅度降低反向漏電,以及大幅度提高反向耐壓。 |
