一種量子點(diǎn)復(fù)合光學(xué)薄膜

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202022922567.8 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN213581407U 公開（公告）日 2021-06-29
申請公布號(hào) CN213581407U 申請公布日 2021-06-29
分類號(hào) G02B3/00（2006.01）I;G02B1/14（2015.01）I;G02F1/13357（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 張楠林;莊李施 申請（專利權(quán)）人 陽明量子科技（深圳）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 重慶樂泰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 林慰敏
地址 518103廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道新田社區(qū)征程一路福永第一工業(yè)村3號(hào)407
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型屬于量子點(diǎn)膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種量子點(diǎn)復(fù)合光學(xué)薄膜，包括基底層和粘接于基底層上下兩側(cè)的保護(hù)層，基底層上下兩側(cè)分別設(shè)有第一凹槽和第二凹槽，第一凹槽內(nèi)部填充有量子點(diǎn)膠粒，任意相鄰兩個(gè)第一凹槽之間還設(shè)有填充槽，上側(cè)保護(hù)層與基底層之間還設(shè)有水氧阻隔膜，水氧阻隔膜包覆基底層周圍，且水氧阻隔膜還設(shè)有填充膜片，上側(cè)保護(hù)層表面還設(shè)有聚光層，聚光層的寬度尺寸大于第一凹槽的開口寬度尺寸；本實(shí)用新型解決了現(xiàn)有的量子點(diǎn)光學(xué)薄膜被裁切后，裁切后的薄膜會(huì)由裁切部位逐漸向內(nèi)部發(fā)生水氧腐蝕使薄膜失效，以及現(xiàn)有的量子點(diǎn)光學(xué)薄膜額外粘接擴(kuò)散層會(huì)增加薄膜厚度。