退鍍裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201721882401.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN207699718U 公開(kāi)（公告）日 2018-08-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN207699718U 申請(qǐng)公布日 2018-08-07
分類號(hào) C25F5/00;C25F7/00 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 桑建新;董耀宗;董明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海冠眾光學(xué)科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海碩力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 上海冠眾光學(xué)科技有限公司
地址 201400 上海市奉賢區(qū)南橋鎮(zhèn)運(yùn)河北路1185號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種退鍍裝置，用于對(duì)光學(xué)薄膜表面進(jìn)行退鍍處理，包括反應(yīng)槽，所述反應(yīng)槽一側(cè)壁上設(shè)置一安裝支架；所述安裝支架包括一用于固定所述光學(xué)薄膜的框架和用于與所述反應(yīng)槽連接的連接板，所述連接板沿所述框架的一側(cè)邊側(cè)壁垂直所述框架方向延伸得到；所述框架的一側(cè)設(shè)置一導(dǎo)電夾，相對(duì)的另一側(cè)設(shè)置一固定裝置，所述光學(xué)薄膜一端夾設(shè)在所述導(dǎo)電夾中，另一端通過(guò)所述固定裝置進(jìn)行固定，使其所述光學(xué)薄膜平整地鋪設(shè)在所述框架下方。本實(shí)用新型通過(guò)用于安裝光學(xué)薄膜的安裝支架與反應(yīng)槽的接，能夠保證需處理的光學(xué)薄膜被平整的放入反應(yīng)槽內(nèi)的電解液中進(jìn)行電解反應(yīng)，從而有效地提高處理效果，避免不必要的材料浪費(fèi)。