退鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721882401.X 申請日 -
公開（公告）號 CN207699718U 公開（公告）日 2018-08-07
申請公布號 CN207699718U 申請公布日 2018-08-07
分類號 C25F5/00;C25F7/00 分類 電解或電泳工藝；其所用設備〔4〕;
發(fā)明人 桑建新;董耀宗;董明 申請（專利權）人 上海冠眾光學科技有限公司
代理機構 上海碩力知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 上海冠眾光學科技有限公司
地址 201400 上海市奉賢區(qū)南橋鎮(zhèn)運河北路1185號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種退鍍裝置，用于對光學薄膜表面進行退鍍處理，包括反應槽，所述反應槽一側壁上設置一安裝支架；所述安裝支架包括一用于固定所述光學薄膜的框架和用于與所述反應槽連接的連接板，所述連接板沿所述框架的一側邊側壁垂直所述框架方向延伸得到；所述框架的一側設置一導電夾，相對的另一側設置一固定裝置，所述光學薄膜一端夾設在所述導電夾中，另一端通過所述固定裝置進行固定，使其所述光學薄膜平整地鋪設在所述框架下方。本實用新型通過用于安裝光學薄膜的安裝支架與反應槽的接，能夠保證需處理的光學薄膜被平整的放入反應槽內的電解液中進行電解反應，從而有效地提高處理效果，避免不必要的材料浪費。