一種碳化硅用機械拋光液及采用其進行機械拋光的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201410112684.4 申請日 -
公開（公告）號 CN103897607B 公開（公告）日 2015-08-19
申請公布號 CN103897607B 申請公布日 2015-08-19
分類號 H01L21/304(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 高玉強;梁慶瑞;王希杰;李印 申請（專利權(quán)）人 濟南槐蔭財金投資有限責(zé)任公司
代理機構(gòu) 濟南舜源專利事務(wù)所有限公司 代理人 苗峻
地址 250118 山東省濟南市槐蔭區(qū)美里湖美里路中段
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種碳化硅用機械拋光液及采用其進行機械拋光的方法，以金剛石微粉和氧化鋁微粉為磨料，與水和分散劑配制而成的拋光液對大直徑高硬度的碳化硅進行機械拋光，能夠減少顯微鏡下碳化硅晶片的可見劃痕數(shù)目，獲得粗糙度小、平整度高、表面損傷小的碳化硅晶片表面，為后續(xù)進行化學(xué)機械拋光提供條件。