一種碳化硅用機(jī)械拋光液及采用其進(jìn)行機(jī)械拋光的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201410112684.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103897607B 公開(kāi)（公告）日 2015-08-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN103897607B 申請(qǐng)公布日 2015-08-19
分類號(hào) H01L21/304(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 高玉強(qiáng);梁慶瑞;王希杰;李印 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 濟(jì)南槐蔭財(cái)金投資有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 濟(jì)南舜源專利事務(wù)所有限公司 代理人 苗峻
地址 250118 山東省濟(jì)南市槐蔭區(qū)美里湖美里路中段
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種碳化硅用機(jī)械拋光液及采用其進(jìn)行機(jī)械拋光的方法，以金剛石微粉和氧化鋁微粉為磨料，與水和分散劑配制而成的拋光液對(duì)大直徑高硬度的碳化硅進(jìn)行機(jī)械拋光，能夠減少顯微鏡下碳化硅晶片的可見(jiàn)劃痕數(shù)目，獲得粗糙度小、平整度高、表面損傷小的碳化硅晶片表面，為后續(xù)進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光提供條件。