一種大尺寸基板蒸鍍裝置及利用該蒸鍍裝置制備CdTe太陽(yáng)能鍍膜的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811446184.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN109402573B 公開(kāi)(公告)日 2019-03-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN109402573B 申請(qǐng)公布日 2019-03-01
分類(lèi)號(hào) C23C14/24(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宋寰欣;黃信二 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 研創(chuàng)應(yīng)用材料(贛州)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南昌金軒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 文珊
地址 341000江西省贛州市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)香港工業(yè)園北區(qū)標(biāo)準(zhǔn)廠房6棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種大尺寸基板蒸鍍裝置以及利用該蒸鍍裝置制備CdTe太陽(yáng)能鍍膜的方法,該蒸鍍裝置包括蒸鍍箱體,所述蒸鍍箱體內(nèi)固定有熱屏蔽裝置,所述蒸鍍箱體的內(nèi)頂壁上固定有鍍膜基板,所述熱屏蔽裝置內(nèi)固定有夾層盒本體和上坩堝,所述熱屏蔽裝置的四周開(kāi)設(shè)有循環(huán)的一號(hào)蒸汽流道,所述夾層盒本體內(nèi)開(kāi)設(shè)有二號(hào)蒸汽流道,所述夾層盒本體的底壁上固定有加熱器,所述上坩堝的下方固定有加熱器,所述蒸鍍箱體的正下方設(shè)置有下坩堝,所述下坩堝的正下方固定有加熱器,本蒸鍍裝置可以應(yīng)用于CdTe太陽(yáng)能鍍膜、以及其他各式二元或多元化合物材料膜層的鍍膜制備中,不僅可以精準(zhǔn)控制鍍膜的成份組成,而且可以提高鍍膜的均勻性。??