一種新型導(dǎo)電膜及其制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010015170.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113161039A 公開(kāi)（公告）日 2021-07-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN113161039A 申請(qǐng)公布日 2021-07-23
分類號(hào) H01B5/14（2006.01）I;H01B13/00（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉麟躍;基亮亮;周小紅 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 維業(yè)達(dá)科技（江蘇）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海波拓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 周志中
地址 215026江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種新型導(dǎo)電膜的制作方法，該方法包括：制備一導(dǎo)電膜，導(dǎo)電膜包括透明基底、位于透明基底上具有圖形凹槽的結(jié)構(gòu)層，以及嵌設(shè)于圖形凹槽中具有異常的導(dǎo)電網(wǎng)格；在導(dǎo)電網(wǎng)格表面制備一表面平整的金屬層，金屬層還填充導(dǎo)電網(wǎng)格的異常處，金屬層與導(dǎo)電網(wǎng)格的導(dǎo)電率一致。本發(fā)明還公開(kāi)了一種新型導(dǎo)電膜，包括透明基底、位于透明基底上具有圖形凹槽的結(jié)構(gòu)層，以及嵌設(shè)于圖形凹槽中的導(dǎo)電網(wǎng)格和覆蓋導(dǎo)電網(wǎng)格的金屬層，其中，導(dǎo)電網(wǎng)格具有異常，金屬層還填充導(dǎo)電網(wǎng)格表面的異常處。通過(guò)上述方法，可以實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)電阻率均一的新型導(dǎo)電膜，成品率高，工藝簡(jiǎn)單可靠，且生產(chǎn)的新型導(dǎo)電膜的性能優(yōu)良。