薄膜處理系統(tǒng)和方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010485965.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113752148A | 公開(公告)日 | 2021-12-07 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113752148A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-12-07 |
分類號(hào) | B24B29/02(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 周小紅;基亮亮;劉麟躍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 維業(yè)達(dá)科技(江蘇)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 蘇州簡(jiǎn)理知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 朱亦倩 |
地址 | 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種薄膜處理系統(tǒng)和方法,所述薄膜處理系統(tǒng)包括:一種薄膜處理系統(tǒng),其包括:第一拋光裝置,被配置的對(duì)薄膜帶的第一表面進(jìn)行拋光,其包括至少一個(gè)拋光組件;第二拋光裝置,被配置的對(duì)薄膜帶的第二表面進(jìn)行拋光,其包括至少一個(gè)拋光組件,其中所述拋光組件包括從動(dòng)輥和拋光單元,所述薄膜帶從從動(dòng)輥和拋光單元之間的穿過,所述拋光單元用于對(duì)接觸到的薄膜帶的表面進(jìn)行拋光。這樣可以在一個(gè)處理流程中,實(shí)現(xiàn)對(duì)所述薄膜帶的雙面進(jìn)行拋光處理,無需中斷,生產(chǎn)效率高。 |
