薄膜處理系統(tǒng)和方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010485986.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113766735A 公開（公告）日 2021-12-07
申請(qǐng)公布號(hào) CN113766735A 申請(qǐng)公布日 2021-12-07
分類號(hào) H05K3/00（2006.01）I;G03F7/00（2006.01）I 分類 其他類目不包含的電技術(shù);
發(fā)明人 周小紅;基亮亮;劉麟躍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 維業(yè)達(dá)科技（江蘇）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州簡(jiǎn)理知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 朱亦倩
地址 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種薄膜處理系統(tǒng)，其包括：第一上膠裝置，其被配置的在薄膜帶的第一表面上形成第一膠層；形成第一膠層后的薄膜帶經(jīng)由第一主動(dòng)輥被驅(qū)動(dòng)的向前傳送，第一主動(dòng)輥輥面壓印在第一膠層上形成重復(fù)排布的第一圖案，第一圖案包括第一對(duì)位標(biāo)識(shí)；第二上膠裝置在來(lái)自第一主動(dòng)輥方向的薄膜帶的第二表面上形成第二膠層；形成第二膠層后的薄膜帶經(jīng)由第二主動(dòng)輥被驅(qū)動(dòng)的向前傳送，第二主動(dòng)輥輥面壓印在第二膠層上形成重復(fù)排布的第二圖案，第二圖案包括第二對(duì)位標(biāo)識(shí)；對(duì)位檢測(cè)裝置，其檢測(cè)第一對(duì)位標(biāo)識(shí)和第二對(duì)位標(biāo)識(shí)的對(duì)位偏差；控制器基于對(duì)位檢測(cè)裝置得到的對(duì)位偏差調(diào)控第一主動(dòng)輥和第二主動(dòng)輥的轉(zhuǎn)速，進(jìn)而使得對(duì)位偏差收斂于預(yù)定偏差閾值范圍。