薄膜處理系統(tǒng)和方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010485971.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113766759A | 公開(公告)日 | 2021-12-07 |
申請公布號 | CN113766759A | 申請公布日 | 2021-12-07 |
分類號 | H05K3/10(2006.01)I;H05K3/26(2006.01)I | 分類 | 其他類目不包含的電技術; |
發(fā)明人 | 周小紅;基亮亮;劉麟躍 | 申請(專利權)人 | 維業(yè)達科技(江蘇)有限公司 |
代理機構 | 蘇州簡理知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人 | 朱亦倩 |
地址 | 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)新昌路68號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種薄膜處理系統(tǒng)和方法,所述薄膜處理系統(tǒng)包括:第一上漿裝置,在薄膜帶的第一表面上涂布導電漿料;第一填刮裝置,將所述導電漿料填刮至第一圖案的凹槽內;第一裱干裝置,對填充于第一圖案的凹槽內所述導電漿料進行干化;第一拋光裝置,對經(jīng)過第一裱干裝置的薄膜帶的第一表面進行拋光;第二上漿裝置,在薄膜帶的第二表面上涂布導電漿料;第二填刮裝置,將所述導電漿料填刮至第二圖案的凹槽內;第二裱干裝置,對填充于第二圖案的凹槽內所述導電漿料進行干化;第二拋光裝置,對經(jīng)過第二裱干裝置的薄膜帶的第二表面進行拋光。這樣可以在一個處理流程中,實現(xiàn)對所述薄膜帶的雙面進行上漿、填刮、裱干和拋光處理,無需中斷,生產(chǎn)效率高。 |
