一種使用離子液體調(diào)控金屬薄膜磁性的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201911072269.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN110983268A | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-04-10 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN110983268A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-04-10 |
分類(lèi)號(hào) | C23C14/35;C23C14/18;H01F41/16 | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 張曉慧;周子堯;胡忠強(qiáng);李春雷 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 西安科匯電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安通大專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 姚詠華 |
地址 | 710075 陜西省西安市高新區(qū)高新二路12號(hào)協(xié)同大廈后樓5層1505 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種使用離子液體調(diào)控金屬薄膜磁性的方法,包括:1)將選定基底進(jìn)行預(yù)處理后,在其上采用直流磁控濺射法在真空度條件下,以不同功率依次沉積適宜被咪唑類(lèi)離子液體調(diào)控的金屬薄膜;2),通過(guò)對(duì)浸潤(rùn)金屬薄膜的咪唑類(lèi)離子液體施加步長(zhǎng)相同的循環(huán)電壓,確認(rèn)未發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的電壓范圍;3)在氮?dú)獗Wo(hù)條件下,通過(guò)改變離子液體兩端電壓調(diào)控金屬薄膜磁性。發(fā)明降低了調(diào)控電壓與電流,節(jié)約能源,減輕了設(shè)備腐蝕且易于操作,同時(shí)調(diào)控量大,對(duì)環(huán)境無(wú)污染。 |
