垂直腔面發(fā)射激光器陣列及改善其該陣列性能的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111076805.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113629489A 公開（公告）日 2021-11-09
申請(qǐng)公布號(hào) CN113629489A 申請(qǐng)公布日 2021-11-09
分類號(hào) H01S5/183（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李浩 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫神州高芯科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京久維律師事務(wù)所 代理人 胡留華
地址 214101江蘇省無錫市錫山區(qū)二泉東路19號(hào)集智商務(wù)廣場2101-B1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種垂直腔面發(fā)射激光器陣列及改善其該陣列性能的方法，屬于垂直腔面發(fā)射激光器技術(shù)領(lǐng)域。解決了現(xiàn)有技術(shù)存在的功率轉(zhuǎn)換效率、輸出功率和出光均勻性較差的技術(shù)問題。該垂直腔面發(fā)射激光器陣列，包括半導(dǎo)體層及形成于一個(gè)半導(dǎo)體層上的若干陣列單元，每個(gè)陣列單元均存在氧化溝槽、臺(tái)面、環(huán)以及出光面，出光面存在有電極，臺(tái)面中設(shè)有氧化層，氧化層內(nèi)存在出光孔，陣列單元中至少部分陣列單元的氧化溝槽、臺(tái)面、環(huán)、電極四者中的任意一者或多者的形狀為不規(guī)則形狀以使出光孔的形成不規(guī)則形狀，至少一部分陣列單元中不同的陣列單元的出光孔的形狀彼此不同。本發(fā)明用于提高垂直腔面發(fā)射激光器陣列的功率轉(zhuǎn)換效率、輸出功率和出光均勻性。